E4C-E2C-NUVA2

Ламповые системы УФ-отверждения

Ртутно-ламповые системы обладают высокой эффективностью. Они представляют собой традиционный источник УФ-излучения для различных промышленных процессов, и эта технология до сих пор развивается.

Ламповые системы УФ-отверждения

В качестве источника УФ-излучения технология использует заполненные ртутные лампы среднего давления. В зависимости от уровня мощности, длины лампы и конструктивных параметров, компания GEW может предложить различные ламповые системы с различными способами охлаждения, которые наилучшим образом подходят для самых сложных УФ-задач.

Предлагаем выбрать нужный продукт, воспользовавшись таблицей, либо перейти непосредственно к продукту, щелкнув на ссылке ниже:

ПродуктМаксимальная электрическая мощностьМаксимальная длинаСтандартное сечениеОхлаждение
E2C140 Вт/смдо 60 см110 мм Ш x 190 мм ВВоздушное
E2C HP180 Вт/смдо 80 см110 мм Ш x 236 мм ВВоздушное
E4C220 Вт/смдо 170 см110 мм Ш x 190 мм ВВоздушное и водяное
NUVA2180 Вт/смдо 250 см145 мм Ш x 293 мм ВВоздушное
NUVA2 HP240 Вт/смдо 60 см145 мм Ш x 293 мм ВВоздушное
E2C

E2C
Наиболее эффективная ламповая система УФ-отверждения воздушного охлаждения в своем классе. При мощностных показателях 140 Вт/см система E2C является фактически стандартным УФ-продуктом, установленным на многих печатных машинах ведущих мирровых типографий. Всего изготовлено 30 000 единиц.

E2C HP

E2C HP
Устройство E2C HP состоит из стандартной кассеты УФ-лампы E2C в более крупном корпусе, что обеспечивает циркуляцию охлаждающего воздуха и, таким образом, более высокую рабочую мощность до 180 Вт/см. Идеально подходит для высокоскоростной печати без значительных перемещений, где требуется ширина лампы до 80 см.

E4C

E4C
Компактная ламповая кассета воздушного и водяного охлаждения для промышленной печати. При мощности 220 Вт/см и ширине до 170 см такая кассета будет идеальна для печати с листовой подачей. Система E4C является венцом инженерной разработки GEW.

NUVA2

NUVA2
Система NUVA2 УФ-отверждения полностью воздушного охлаждения шириной до 250 см идеально подойдет для нанесения покрытия на ленту и специализированных промышленных задач. Система NUVA2 мощностью до 27 кВт предлагается вместе с рядом исполнительных и монтажных опций на условиях заказчика.

NUVA2

NUVA2 HP
Система NUVA2 HP полностью воздушного охлаждения представляет собой высокомощную ламповую кассету. Она идеально подходит для окончательного отверждения краскоструйной печати либо сложных типографских задач, где имеется достаточное пространство. Предлагается мощностью до 240 Вт/см и длиной арки до 60 см.


Компания GEW также предлагает возможность приобретения системных компонентов и дополнительного оборудования для любой нашей системы УФ-отверждения. Подробнее о предложении можно узнать здесь:

Сенсорный экран GEW HMI

Системы управления лампами УФ-отверждения

Управление нашими УФ-технологиями осуществляется современными средствами контроля. Подробнее можно узнать ниже.

Чиллеры у печатного станка

Системы охлаждения ламп УФ-отверждения

Наши УФ-системы оборудованы различными вариантами охлаждения. Ими могут быть испарители или вентиляторы, разработанные для ваших печатных машин.

Блок питания RHINO

Системы питания ламп УФ-отверждения

Наши УФ-лампы приводятся в действие от источников питания двух типов. Узнать подробнее о наиболее подходящем источнике питания.

Многоточечные УФ-мониторы GEW, установленные на ламповые головки NUVA2

Варианты под заказ

Мы предлагаем изготовление самых разных ламповых систем УФ-отверждения по техническим условиям заказчика.


Обращайтесь непосредственно к торговому представителю

David Lyus

Регион, Россия:
David Lyus
Руководитель отдела международных продаж

T: +44 (0) 7713 085 381

Адрес электронной почты Дэвида

Найдите ближайшего дистрибьютора:

Если конкретной страны в списке не нашлось, просим связаться с нашим головным офисом в Соединенном Королевстве. Мы окажем помощь.